平板显示、太阳能电池

高纯六氟化硫（SF6）产品纯度已达99.999％(5N)。黎明院是国内较早研究开发六氟化硫生产工艺的单位，取得数十项技术研究及革新成果。产品质量完全达到了LCD、TFT等生产工艺的需要，并销往美国、韩国、台湾等国家和地区。高纯六氟化硫在微电子行业中的应用，主要可作为优良的蚀刻气体，在光导纤维制造中，可作为单膜光纤隔离层掺添剂，还可作为重要的激光材料用在激光技术中。

高纯三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮用于硅和氮化硅蚀刻时，具有更高的蚀刻速率和选择性，且在被蚀刻物表面不残留任何物质。高纯三氟化氮（NF3）主要用途，一是用作高能化学激光气的氟源，二是作为电子工业(IC)中的蚀刻剂、清洗剂，三是应用于太阳能光电产业。

高纯四氟化碳（CF4）是目前最主要的等离子体蚀刻气体之一，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃及钨等薄膜材料的刻蚀。

高纯六氟化钨（WF6）主要作为金属钨化学气相沉积工艺的原材料，应用于生产阻挡层和栅极填充材料，以及导电浆糊的原材料。

硒化氢是一种重要的集成电路生产原材料，也可用于红外窗口材料制造。

电子工业中氮化膜的成膜气体，是化学气相沉积重要的“氮”源。高纯氨主要应用于LED制造业，其中超高纯氨是第三代化合物材料氮化镓(GaN)的关键支撑材料； 在太阳能多晶硅电池、LCD显示屏行业也被使用，需求一般为5N-6N。

光明化工研究院供应电子混合气（常用蚀刻混合气、掺杂混合气、化学气相淀积（CVD）混合气、外延（生长）混合气、其他电子混合气）、高纯气（氯乙烯、溴甲烷、氯甲烷、1,3-丁二烯、异丁烯、反-2-丁烯、顺-2-丁烯、1-丁烯、异丁烷、正丁烷、环丙烷、丙二烯等）、标准混合气体（检漏混合气、消毒杀菌混合气、电光源混合气、保鲜混合气、焊接用混合气、特殊仪器用混合气、激光混合气等）。

电子混合气

高纯气

标准混合气体